Zeiss xradia versa - avec résolution submicronique des échantillons intacts
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Alexia CHAUDERLOT
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par CARL ZEISS - DIVISION MÉTROLOGIE
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Description
Xradia Versa 620 combine une optique unique à grossissement en deux étapes et une source de rayons X à flux élevé pour produire des images à résolution inférieure au micron plus rapides.
Un nouveau système de contrôle de source améliore la réactivité de la source en permettant une configuration plus rapide de l'analyse, permettant ainsi une expérience utilisateur plus facile et plus attrayante.
ZEISS Xradia série 600 peut caractériser de manière non destructive la microstructure 3D de matériaux sous perturbations contrôlées (in situ) et observer l'évolution des structures dans le temps (4D).
Un nouveau système de contrôle de source améliore la réactivité de la source en permettant une configuration plus rapide de l'analyse, permettant ainsi une expérience utilisateur plus facile et plus attrayante.
ZEISS Xradia série 600 peut caractériser de manière non destructive la microstructure 3D de matériaux sous perturbations contrôlées (in situ) et observer l'évolution des structures dans le temps (4D).
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