Nettoyeur plasma in-situ pour les gaz agressifs et corrosifs - Saphir SEMI-KLEEN
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Nettoyeur plasma in-situ saphir SEMI-KLEEN
Source de plasma in-situ pour les gaz agressifs et corrosifs
Le nettoyeur plasma in-situ SEMI-KLEEN saphir est une mise à niveau par rapport au nettoyeur plasma SEMI-KLEEN standard pour prendre en charge les gaz de processus agressifs et corrosifs. La chambre à plasma a été remplacée par un tube en saphir plus résistant chimiquement. La conception du joint à vide et la sélection du matériau de la chambre ont été optimisées pour supporter les processus corrosifs à l'intérieur du plasma. Pour les applications où la gravure au plasma d'hydrogène de la chambre à quartz est un problème, le saphir SEMI-KLEEN est un meilleur choix par rapport à la source de plasma d'hydrogène à chambre à quartz traditionnelle.
La source de plasma à distance SEMI-KLEEN saphir a été utilisée pour déposer des films minces, nettoyer la surface des échantillons avant le dépôt de couches minces dans les systèmes de dépôt de couche atomique et nettoyer les contaminations au carbone et à l'oxygène de la surface métallique pour des projets menés au NIST. Les résultats des utilisateurs montrent que la source de plasma SEMI-KLEEN peut nettoyer les contaminants de carbone et d'oxygène de l'échantillon InGaAs avec seulement 2 secondes de plasma d'hydrogène. La source de plasma d'hydrogène très efficace nécessite une capacité de décharge à basse pression sinon, l'hydrogène atomique se recombinera et perdra son efficacité
Source de plasma in-situ pour les gaz agressifs et corrosifs
Le nettoyeur plasma in-situ SEMI-KLEEN saphir est une mise à niveau par rapport au nettoyeur plasma SEMI-KLEEN standard pour prendre en charge les gaz de processus agressifs et corrosifs. La chambre à plasma a été remplacée par un tube en saphir plus résistant chimiquement. La conception du joint à vide et la sélection du matériau de la chambre ont été optimisées pour supporter les processus corrosifs à l'intérieur du plasma. Pour les applications où la gravure au plasma d'hydrogène de la chambre à quartz est un problème, le saphir SEMI-KLEEN est un meilleur choix par rapport à la source de plasma d'hydrogène à chambre à quartz traditionnelle.
La source de plasma à distance SEMI-KLEEN saphir a été utilisée pour déposer des films minces, nettoyer la surface des échantillons avant le dépôt de couches minces dans les systèmes de dépôt de couche atomique et nettoyer les contaminations au carbone et à l'oxygène de la surface métallique pour des projets menés au NIST. Les résultats des utilisateurs montrent que la source de plasma SEMI-KLEEN peut nettoyer les contaminants de carbone et d'oxygène de l'échantillon InGaAs avec seulement 2 secondes de plasma d'hydrogène. La source de plasma d'hydrogène très efficace nécessite une capacité de décharge à basse pression sinon, l'hydrogène atomique se recombinera et perdra son efficacité
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